ASML「1,000W」の衝撃 —— EUV光源が切り拓く、半導体製造の次の10年
画像出典：ASML 2026年2月23日、ASMLが一つの数字を発表した。 1,000ワット。 EUV（極端紫外線）リソグラフィの光源出力が、初めて4桁に到達した瞬間だ。2018年に量産が始まった時の250Wから、わずか8年で4倍。この数字...
2026年2月25日
日本半導体の「ツートラック戦略」── 熊本3nm × 北海道2nm、5兆円の逆転シナリオ
2026年2月、日本の半導体業界に二つのビッグニュースがほぼ同時に飛び込んできた。 2月5日、TSMC CEOのC.C. Wei氏が東京で高市早苗総理と会談した直後、熊本第2工場のプロセスノードを6nmから 3nmへ大幅に格上げ すると発表...
2026年2月23日